职位描述
岗位职责:1、参与光刻工艺开发以及工艺菜单的确定(包括光刻胶选定、光刻工艺模拟和验证、光刻工艺条件确定;确定光刻曝光、涂胶显影、测量程序等);2、参与inline工艺的SPC关键项CPK稳定控制,简化流程,降低成本,提高效率;3、工艺菜单优化,改善工艺窗口、工艺一致性和工艺缺陷等;4、参与出带准备工作,负责**** cell table的建立、维护和优化和mask JDV等工作;5、新型工艺、新材料、新技术等引入、验证和改进;6、负责记录机台运行状态/维护记录的备案;7、技术创新和经验积累(撰写专利、工艺开发报告、工艺优化报告、典型工艺难题调查报告等)。任职要求:1、具有半导体光刻工艺开发、光刻量测设备(CDSEM机,迭代测量仪,目检机台,缺陷探测仪和缺陷分析仪等) 3年以上的实际管理/维护经验(具备在8-12寸半导体工艺平台工艺开发经验者优先);2、创新能力和动手能力强,并具有较强的分析能力;3、能熟练使用office、JMP及工艺相关软件,有行业相关的英文读写能力。
企业介绍
驰拓科技有限公司(简称驰拓科技)成立于2016年1月,是一家以新型高端存储器件及系统的研发、中试与产业化为核心的半导体公司。驰拓科技坚持以市场为导向,紧紧抓住自身产品优势和市场机遇,全力打造以新型高端存储芯片及系统为核心的新型存储器生态圈,推动微电子、纳米科技及信息存储技术的发展,为新型处理器架构创新提供器件和技术支撑。